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- GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

【国家标准】 磁控溅射用钌靶
本网站 发布时间:
2018-04-02
- GB/T 34649-2017
- 现行
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适用范围:
本标准规定了磁控溅射用钌靶的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于微电子领域镀膜用磁控溅射钌靶(以下简称钌靶)。
标准号:
GB/T 34649-2017
标准名称:
磁控溅射用钌靶
英文名称:
Magnetron sputtering ruthenium target标准状态:
现行-
发布日期:
2017-09-29 -
实施日期:
2018-04-01 出版语种:
中文简体
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